答案：最近，有消息称，高通的下一代移动芯片——骁龙8系列将会使用台积电的N3E工艺进行制造。这也意味着，该款芯片将成为全球首批采用此项技术的产品之一。

什么是N3E工艺？

N3E是台积电公司推出的第三代10纳米FinFET（非晶体管）工艺。与其前两个版本相比，N3E在功耗、性能和面积方面都有了显著提升。在功耗方面，它可以降低30%以上；在性能方面，则可以提高10%-15%；而面积则缩小了25%左右。

由于这些优势，在移动设备和服务器领域中得到广泛应用，并受到业界认可。

N1、N2、N2+、 N6 和 N5 工艺分别指什么？

除了上述提及的第三代10纳米FinFET（非晶体管）工艺外，台积电还推出过其他几种不同版本：

- N1：第七代14纳米 FinFET 工艺，主要用于高性能晶片。

- N2：第二代 7纳米 FinFET 工艺，主要应用于移动芯片和网络处理器等领域。

- N2+：第二代 7纳米 Plus FinFET 工艺，相比N2可以增加5%的性能和10%的功耗效率。目前已经被多款手机采用。

- N6：第六代12纳米 FinFET工艺，可广泛应用在物联网、汽车电子以及消费类电子产品中。

- N5：五纳米FinFet技术,是台积电最新推出的一款工艺。

四代骁龙8处理器将带来哪些亮点？

在使用N3E工艺之后，四代骁龙8系列芯片将会有更低的功耗、更高的性能表现以及更小的面积。具体来说：

1. 更低功耗

随着移动设备越来越依赖于长时间运行而不需要频繁充电，降低功耗成为了厂商们追求的共同目标。使用N3E工艺制造芯片可以大幅度地减少其总体功耗，并且还能够提升单个核心的效率。

2. 更高性能

在使用N3E工艺之后，骁龙8系列芯片将会有更快的运行速度和更好的多任务处理能力。该款芯片还将支持5G网络，并且可以提供更加稳定和快速的数据传输速度。

3. 更小面积

由于N3E工艺拥有比较高的密度，因此可以在相同面积内放置更多核心、缓存以及其他组件。这也意味着，在相同尺寸下，四代骁龙8处理器可以拥有更强大的计算能力。

四代骁龙8处理器采用台积电N3E工艺制造是一次重要突破。它不仅带来了功耗降低、性能提升等优势，同时也为移动设备发展带来了新思路与新机遇。未来随着技术进步和市场需求变化，我们还将看到更多创新型产品涌现。